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等離子去膠機是一種利用等離子體技術進行表面清洗和去膠的設備。其基本原理是通過氣體放電產(chǎn)生等離子體，這些高能粒子能夠解離化學鍵、改變分子結構，從而有效去除硅片、玻...
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要想理解等離子表面處理系統(tǒng)，需要先了解等離子體的概念，等離子體，被譽為物質(zhì)的第四態(tài)，是氣體在高溫、強電場或激光等能量作用下，部分或全部電離形成的一種由電子、離子、自由基及中性粒子組成的混合體系。與固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)相比，等離子體具有特殊的物理化學性質(zhì)，如高能量密度、高反應活性等，這些特性使得等離子體在材料表面處理中展現(xiàn)出巨大的潛力。等離子表面處理系統(tǒng)利用等離子體對材料表面進行物理或化學改性的技術。其基本原理是通過將氣體(如氬氣、氧氣、氮氣等)引入真空腔室，并在其中施加電場或射頻...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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